【摘 要】
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利用多靶磁控共溅射技术,在不同基底偏压下制备了多组NbN-NbB2纳米复合膜,用以探究偏压对复合膜显微结构和力学性能的影响.分别利用X线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、透射电子
【机 构】
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天津师范大学物理与材料科学学院,天津师范大学天津储能材料表面技术国际联合研究中心
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2015AA034702);国家自然科学基金资助项目(51472180);天津市自然科学基金资助项目(15JCQNJC42500)
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利用多靶磁控共溅射技术,在不同基底偏压下制备了多组NbN-NbB2纳米复合膜,用以探究偏压对复合膜显微结构和力学性能的影响.分别利用X线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、透射电子显微镜（TEM）和纳米压痕仪对复合膜的结构、断面形貌、表面粗糙度及其硬度和弹性模量进行测试.实验结果表明：偏压为-160 V时,NbN-NbB2复合薄膜中出现了立方相δ-NbN与六方相δ′-NbN的混合相,并以δ-NbN（111）晶面取向为主相;此时,复合膜结晶性最强,且具有非晶NbB2穿插在结晶态NbN中和结晶态NbN紧
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