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2013年7月10日,由中国惠普有限公司联合中央美术学院共同举办的“惠普央美联合服装配饰设计大赛”落下帷幕,并在“上海1933老场坊”举行了颁奖典礼。本届大赛共设立了三个奖项,来自中央美术学院设计学院学生孙明章、李聪聪与于诗萌的作品最终脱颖而出,分别荣获一、二、三等奖并获得惠普“超极本”、惠普打印机及惠普Slate7等奖励。此次大赛,得到惠普Latex打印技术的倾力支持,以其打印介质多样性、高耐用性的特点,激发学生充分利用布料、丝绸、皮革、金属等不同材料,制作形式多样、色彩丰富的创意作品,为大家带来一场“