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ZnO基透明导电膜的研究进展迅速,其光电性能已接近锡掺杂铟氧化物透明导电薄膜(ITO),而且它相比ITO薄膜易于掺杂、更易刻蚀、在等离子体中稳定性好,未来有望成为平板显示器中取代ITO薄膜的材料。概述了氧化锌基透明导电膜的制备方法和掺杂改性研究进展,对单层膜和多层膜的制备进行了分析,对氧化锌基透明导电膜的研究趋势进行了展望。