Se超薄层钝化Si（100)表面与金属Al、Pt的接触特性

来源 :黎明职业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bqayxgflx1

【摘要】

：

采用超高真空气相沉积系统外延硒（Se)超薄层钝化Si(100)表面，研究其与金属铝（A1)、铂（Pt)的接触特性。对于A1与Se钝化后的Si接触样品，其肖特基势垒高度（SBH)值为0.2eV，相比于HF处理

【作者】

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潘书万庄琼云郑力新王柳灵

【机构】

：

华侨大学工学院,黎明职业大学信息与电子工程学院,不详

【出处】

：

黎明职业大学学报

【发表日期】

：

2018年1期

【关键词】

：

金半接触硒钝化肖特基势垒高度 metal-semiconductor contact selenium passivation SBH

【基金项目】

：

福建省自然科学基金面上项目（2015J01655),福建省教育厅基金项目（A类）（JA14025,JA13429),华侨大学科研基金资助项目（12BS226)

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采用超高真空气相沉积系统外延硒（Se)超薄层钝化Si(100)表面，研究其与金属铝（A1)、铂（Pt)的接触特性。对于A1与Se钝化后的Si接触样品，其肖特基势垒高度（SBH)值为0.2eV，相比于HF处理的样品，SBH降低了一半；随着退火温度从200P升至500P，SBH值逐渐升高至HF处理的样品的SBH值。而对Pt与Se钝化的Si接触样品，未退火时电流电压特性基本与HF处理的样品一致，然而快速热退火后，Se钝化的样品基本保持不变，而HF处理的样品反向偏置电流迅速增大。通过拟合金半接触SBH与金属功函数

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