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在共振隧穿二极管（RTD）的MBE生长中，用双生长速率和束流调制技术实现了RTD nm级薄层的精细控制；用X射线双晶衍射仪扫描并分析了典型双势垒RTD样品的衍射摇摆曲线；用计算机对样品结构进行了动力学模拟分析。结果显示样品异质结界面和晶体质量良好，纳米薄膜的组分和厚度偏差分别控制在2％和3．5％之内，说明薄层的生长得到了精细控制。