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期刊论文
p型硅片上激光诱导局部化学沉镍
p型硅片上激光诱导局部化学沉镍
来源 :高等学校化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hhbsoftware
【摘 要】
:
在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现p型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍,讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响,使用SEM、AES和RBS等方面对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱
【作 者】
:
王建
郁祖湛
郁宁
【机 构】
:
复旦大学化学系,同济大学化学系
【出 处】
:
高等学校化学学报
【发表日期】
:
1996年4期
【关键词】
:
激光诱导
化学沉积
镍
反应机理
Laser-inducing
Chemical deposition
Nickel
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现p型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍,讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响,使用SEM、AES和RBS等方面对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱导化学沉积得到了均匀致密、结合力好的纯镍镀层。镀层与基体间具有Schottky接触特性。
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