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磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用。综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素。影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等。
磁控溅射对薄膜附着力的影响
【摘 要】
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磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用。综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响
【机 构】
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山东天诺光电材料有限公司,山东现代职业学院
【出 处】
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绝缘材料
【发表日期】
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2008年06期
【基金项目】
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国防基础科研(B0920061337)
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