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ICP-AES测定钛铝系金属间化合物中钽、硅
ICP-AES测定钛铝系金属间化合物中钽、硅
来源 :光谱实验室 | 被引量 : 0次 | 上传用户:FLASH920
【摘 要】
:
采用ICP-AES法测定钛铝系金属间化合物中Ta、Si的含量,研究了基体元素和共存元素的干扰以及消除方法.在本方法的测定范围内(Si 0.05%-1.00%、Ta 0.10%-4.00%),钽、硅测量的相
【作 者】
:
高颂
石晓丽
杨春晟
【机 构】
:
北京航空材料研究院
【出 处】
:
光谱实验室
【发表日期】
:
2005年4期
【关键词】
:
电感耦合等离子体-原子发射光谱法
钛铝金属间化合物
钽
硅
ICP-AES
Ti-Al-Based Intermetallic Compound
Tanta
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采用ICP-AES法测定钛铝系金属间化合物中Ta、Si的含量,研究了基体元素和共存元素的干扰以及消除方法.在本方法的测定范围内(Si 0.05%-1.00%、Ta 0.10%-4.00%),钽、硅测量的相对标准偏差(n=8)小于6%.方法简便、快捷,结果准确.
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