【摘 要】
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研究射频磁控溅射法制备ZnO薄膜,采用X射线衍射仪（XRD）和场发射扫描电子显微镜（SEM）研究溅射功率、溅射时间和退火温度对薄膜微结构特性的影响,并分析ZnO薄膜阻变特性。实验结果
【机 构】
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黑龙江大学黑龙江省高校电子工程重点实验室,黑龙江大学化学化工与材料学院
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研究射频磁控溅射法制备ZnO薄膜,采用X射线衍射仪（XRD）和场发射扫描电子显微镜（SEM）研究溅射功率、溅射时间和退火温度对薄膜微结构特性的影响,并分析ZnO薄膜阻变特性。实验结果表明,沉积态薄膜择优取向为〈002〉晶向,随溅射功率和退火温度增加,择优取向显著增强,溅射功率120 W时薄膜生长速率可达4.8 nm/min,薄膜厚度92 nm的ZnO薄膜具有阻变特性且开关比可达104。
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