【摘 要】
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采用磁控溅射法在热等静压成形铍基底表面进行了钒镀层的沉积,并通过SEM、AFM、XRD对钒镀层的微观组织结构进行了分析;为了研究铍/钒镀层界面在高温环境下的互扩散性能,对沉
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采用磁控溅射法在热等静压成形铍基底表面进行了钒镀层的沉积,并通过SEM、AFM、XRD对钒镀层的微观组织结构进行了分析;为了研究铍/钒镀层界面在高温环境下的互扩散性能,对沉积后的涂层进行了热等静压(HIP)处理。结果表明:采用磁控溅射法可以在铍表面获得结合良好、结构致密的纯钒镀层,镀层晶粒尺寸约为175nm,在垂直于基底表面内为柱状生长。热等静压处理后铍基底和钒镀层间发生了扩散,扩散层厚度约为1μm,并且形成了金属间化合物Be12V。
The deposition of vanadium coating on the hot isostatic pressing beryllium substrate was carried out by magnetron sputtering. The microstructure of vanadium coating was analyzed by SEM, AFM and XRD. In order to study the microstructure of beryllium / vanadium coating at high temperature Under the mutual diffusion properties, the deposited coating was subjected to hot isostatic pressing (HIP) treatment. The results show that pure vanadium coating with dense and compact structure can be obtained on the surface of beryllium by magnetron sputtering. The grain size of the coating is about 175 nm, and the columnar growth is perpendicular to the surface of the substrate. The diffusion of the beryllium substrate and the vanadium coating occurred after the hot isostatic pressing, and the thickness of the diffusion layer was about 1 μm, and the intermetallic compound Be12V was formed.
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