二维胶体晶体刻蚀法及其应用

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【摘要】

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二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实

【作者】

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李越蔡伟平孙丰强张立德

【机构】

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中国科学院固体物理研究所

【出处】

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物理

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

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二维胶体晶体刻蚀法纳米颗粒阵列纳米材料纳米结构合成 two|dimensional colloid crystal lithography

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二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实现阵列性质的大范围调制.而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键,文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术;概述胶体晶体刻蚀技术的应用,并对此进行展望.

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