【摘 要】
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以二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷（TA）作为分子底层，采用两步组装的方法在单晶硅基底表面制备一系列相同结构不同分子链长的自组装双层薄膜。利用椭圆偏光测厚仪、接触角测定仪、
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以二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷（TA）作为分子底层，采用两步组装的方法在单晶硅基底表面制备一系列相同结构不同分子链长的自组装双层薄膜。利用椭圆偏光测厚仪、接触角测定仪、原子力显微镜（AFM）等对薄膜的形成及微观摩擦力进行表征。研究结果表明，低表面能的疏水性末端基团有利于降低薄膜的摩擦力和摩擦因数；组装分子碳链长度的增加有助于形成有序性强和致密度高的组装薄膜，从而减小薄膜表面的摩擦力和摩擦因数。
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