冠醚在晶体管硅表面清洗中的应用

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利用冠醚对金属离子所具有的选择性络合作用,用于晶体管生产中硅片表面的清洗,取得了初步结果。经冠醚的甲苯溶液处理过的晶体管,反向击穿电压大大提高,这有助于硅晶体管产品的质量和产量的提高,在试用18-冠-6,2苯并-18-冠-6,二环已基-18-冠6和苯并-15-冠-5四种冠醚中,以0.5%18-冠-6的甲苯溶液清洗,效果最好。 The selective complexation of metal ions by the crown ether is used to clean the surface of the silicon wafer in transistor production and preliminary results are obtained. The reverse breakdown voltage of the transistor treated with crown ether in toluene solution is greatly increased, which contributes to the quality and yield of the silicon transistor product. In the trial of 18-crown-6,2-benzo-18-crown-6 , Dicyclohexyl-18-crown 6 and benzo-15-crown-5 crown ether, with 0.5% 18-crown-6 toluene solution, the best results.
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