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本文利用国际上近几年发展起来的一种新型显微成像工具－扫描声显微镜对几种类型的半导体材料进行了电子声成像观察与研究，文中简述了扫描电子声显微镜的电子声成像机理和其工作原理，从获得的电子声图象上，反映出扫描电子声显微成像技术在对半导体的亚表面缺陷和掺杂分布方面有着直接观察和显示的能力，同时与相应位置所获得的二次电子像进行了比较，显示出了电子声显微成像技术的独特之处和潜在的应用价值。