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应用电位扫描和电位-时间程序技术,研究了四氢呋喃在铂电极上和在HClO_4溶液中电催化氧化时的吸附中间物.结果表明,在铂表面上存在三种独方形成的吸附中间物.论证了这些吸附中间物的可能构型及其形成机理。
在铂上四氢呋喃电氧化的吸附中间物的研究
【摘 要】
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应用电位扫描和电位-时间程序技术,研究了四氢呋喃在铂电极上和在HClO_4溶液中电催化氧化时的吸附中间物.结果表明,在铂表面上存在三种独方形成的吸附中间物.论证了这些吸附
【机 构】
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北京大学化学系,北京大学化学系
【出 处】
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物理化学学报
【发表日期】
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1990年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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