等离子体化学气相沉积法生长薄膜材料的进展

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本文综述了化学气相沉积(CVD)的发展和等离子体化学气相沉积(PCVD)的兴起。阐明了等离子体对化学气相沉积的增强作用及从70年代后期以来等离子体化学气相沉积法的进展和贡献,展望了用此法沉积生长薄膜材料的前景。
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