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提出一种通过对远场散射光分布的统计分析来测量中等以上精度表面粗糙度的新方法。采用半导体激光器作为光源,并使用一维 CCD 器件来探测散射光分布。实验结果表明,在 R_a≤2.2μm 的范围内,远场归一化散射光分布的标准偏差(σ)与标准粗糙度参数 R_a 之间有很好的相关关系。
用准单色光散射法测量中等以上精度表面粗糙度
【摘 要】
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提出一种通过对远场散射光分布的统计分析来测量中等以上精度表面粗糙度的新方法。采用半导体激光器作为光源,并使用一维 CCD 器件来探测散射光分布。实验结果表明,在 R_a≤2
【机 构】
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上海交通大学,上海交通大学博士研究生,教授
【出 处】
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宇航计测技术
【发表日期】
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1990年06期
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