【摘 要】
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１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然
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１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然而，根据下代光刻...
1 Introduction A year and a half ago, the International SEMATECH Consortium narrowed down the succession options for optical lithography to four: EUV, IPL, SCALPEL, and x Ray lithography. It has been demonstrated that various techniques have the ability to map features below 70 nm in size. However, according to the next generation lithography ...
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