Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层对NiZn铁氧体双层膜性能的影响

来源 :磁性材料及器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户：apenggejiayou

【摘要】

：

采用旋转喷涂法在Si(100)基片上制备Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4(100 nm)铁氧体薄膜作为种子层,然后在种子层上采用射频磁控溅射法沉积Ni0.25Cu0.09Zn0.66Fe1.998O4(600 nm)铁氧体薄

【作者】

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闫妍孙科杨长龙王炜郭荣迪蒋晓娜余忠兰中文

【机构】

：

电子科技大学材料与能源学院,国网辽宁省电力有限公司沈阳供电公司

【出处】

：

磁性材料及器件

【发表日期】

：

2020年3期

【关键词】

：

NiZn薄膜种子层矫顽力磁导率 NiZn thin filmseed layercoercivitypermeability

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(51101028),国家电网公司科学技术项目(2018YF-26)

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采用旋转喷涂法在Si(100)基片上制备Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4(100 nm)铁氧体薄膜作为种子层,然后在种子层上采用射频磁控溅射法沉积Ni0.25Cu0.09Zn0.66Fe1.998O4(600 nm)铁氧体薄膜。研究了种子层对NiZn铁氧体双层膜微观形貌、饱和磁化强度、矫顽力、磁导率及截止频率的影响。结果表明,Ni0.25Zn0.15Fe2.6O4种子层的引入促进了NiZn铁氧体双层膜尖晶石相的晶化和晶粒生长。NiZn铁氧体双层膜的饱和磁化强度Ms为420 kA/m,矫顽力Hc为5.

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