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磁流变抛光工艺（TMP）是终端计算机控制的半导体抛光，几何精确率高，这种抛光在磁场的作用下充分利用了磁流变液体（MRZH），在这种磁场下液体的粘稠会增加可塑性，可以抛光各种材料。项目描述：磁流变抛光工艺（TMP）借助于各种结构的磁流变模具（MMP，是插图中所展示的各种磁流变模具之一）实施抛光。磁流变模具（MMP）属于基础车床，其示意图和结构不受光学和半导体零件材料的型号及品种限制，磁流变抛光设备完全是自动化的，电脑控制，而且它区别于传统抛光设备，不用给每个需要抛光的部分测量尺寸。