【摘 要】
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利用激光干涉光刻和金纳米颗粒胶体溶液制备了宽度在100nm以下且总面积达到平方厘米量级的金纳米线光栅结构.制备过程中,首先在表面镀有厚度约为200nm的铟锡氧化物薄膜的面积
【机 构】
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北京工业大学应用数理学院,河北师范大学物理科学与信息工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金（No.111074018）, 新世纪优秀人才支持计划, 高等学校博士学科点专项基金（No.20091103110012）资助
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利用激光干涉光刻和金纳米颗粒胶体溶液制备了宽度在100nm以下且总面积达到平方厘米量级的金纳米线光栅结构.制备过程中,首先在表面镀有厚度约为200nm的铟锡氧化物薄膜的面积为1cm×1cm的玻璃基片表面旋涂光刻胶,然后利用紫外激光干涉光刻制备光刻胶纳米光栅结构.有效控制干涉光刻过程中的曝光量、显影时间,获得小占空比的光刻胶光栅.再以光刻胶纳米光栅作为模板,旋涂金纳米颗粒胶体溶液.充分利用金纳米颗粒胶体溶液在光刻胶表面浸润性差的特点,限制旋涂后留存在光刻胶光栅槽中金纳米颗粒的数量,从而达到限制金纳
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