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期刊论文
GaAs/GaAlAs反应离子刻蚀腔面激光器
GaAs/GaAlAs反应离子刻蚀腔面激光器
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:f117f117f117677
【摘 要】
:
采用反应离子刻蚀GaAs/GaAlAs双异质结构激光器的一个腔面,已经获得室温下连续激射的效果,其阈电流比解理腔面高18%左右,量子效率低14%左右.
【作 者】
:
庄婉如
杨培生
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1991年8期
【关键词】
:
GAAS/GAALAS
离子刻蚀
腔面
激光器
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采用反应离子刻蚀GaAs/GaAlAs双异质结构激光器的一个腔面,已经获得室温下连续激射的效果,其阈电流比解理腔面高18%左右,量子效率低14%左右.
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