Current Progress of Hf （Zr）-Based High-k Gate Dielectric Thin Films

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jie_169

【摘要】

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与互补 metal-oxide-semiconductorfield 效果晶体管尺寸的继续的 downscaling ，高电介质的常数( high-kappa )门材料作为 SiO2 的选择，是广泛地， investigated.Hf ( Zr )基于 h

【作者】

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Gang HE Lide ZHANG

【机构】

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KeyLaboratoryofMaterialsPhysics

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

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2007年4期

【关键词】

：

材料科学技术学报镀膜设备低维功能材料金属氧化物半导体 Hf （Zr）-based high-k gate dielectric PVD Optical

【基金项目】

：

AcknowledgementsThe authors acknowledge the support from the National Major Project of Fundamental Research： Nanomaterials and Nanostructures （Grant No. 2005CB623603）, the National Natural Science Fou

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与互补 metal-oxide-semiconductorfield 效果晶体管尺寸的继续的 downscaling ，高电介质的常数( high-kappa )门材料作为 SiO2 的选择，是广泛地， investigated.Hf ( Zr )基于 high-kappa 门电介质薄电影由于他们的优秀物理性质和表演为半导体根据国际技术路线图被认为是 high-kappa 门电介质的最有希望的候选人。这篇论文在基于的 Hf ( Zr )上考察最近的进步基于 PVD (物理蒸汽免职)， process.Th

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