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采用射频磁控溅射法在双面抛光Si（100）基片上制备了类金刚石薄膜，通过磁过滤等离子体化学气相沉积法，以N2、H2混合气体为反应溅射气体，对类金刚石薄膜样品表面进行氨基改性。傅立叶变换红外透射光谱（FT—IR）的结果表明，改性后的类金刚石薄膜上有c—NH2键存在；光电子能谱（XPS）的结果表明，改性后的薄膜表面含氮量约为8．92％，N1s的结合能出现在氨基对应的结合能范围内，表明类金刚石薄膜经过适当改性后可以在薄膜表面产生氨基。