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软X射线作用下的InP表面微结构
软X射线作用下的InP表面微结构
来源 :北京同步辐射装置年报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qwer890405
【摘 要】
:
同步辐射软X射线(白光)对InP表现进行了辐照。并对样品的表面电子结构作了UPS和XPS分析。结果显示,样品表面电子态变化明显,P3a峰化学位移大于In4d峰。与In非键合的P2p峰面积辐照
【作 者】
:
靳涛
奎热西
等
【机 构】
:
中国科学院新疆物理研究所,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
:
北京同步辐射装置年报
【发表日期】
:
1997年1期
【关键词】
:
软X射线
INP
表面微结构
磷化铟
半导体
电离损伤
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同步辐射软X射线(白光)对InP表现进行了辐照。并对样品的表面电子结构作了UPS和XPS分析。结果显示,样品表面电子态变化明显,P3a峰化学位移大于In4d峰。与In非键合的P2p峰面积辐照后显著增加。说明软X射线对InP表现F原子的电离损伤要大于In原子。
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