气源UHV—CVD制作异质超晶格膜

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ck198
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据日本《Semiconductor Worm》1992年第2期报道,日电公司为了将Si超高速元件用于超大型电子计算机,开发了UHV—CVD设备。该设备可高质量、高效率地制作Si和Si/Ge超晶格膜。 According to Japan’s “Semiconductor Worm” 1992 the second report, the company for the ultra-high-speed Si ultra-high-speed components used in ultra-large computers, developed UHV-CVD equipment. The device produces high-quality, high-efficiency Si and Si / Ge superlattice films.
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