电沉积技术制作高聚物微流控芯片模具

来源 :电化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jerry_007_

【摘要】

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利用电沉积技术制作微流控芯片金属模具,方法是:使用新型超厚光刻胶SU-8胶作近紫外光刻,并在光刻后的图案上电沉积金属Ni,之后去胶,最终获得金属模具.该法减小了电沉积工作量

【作者】

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罗怡褚德南娄志峰刘冲王立鼎

【机构】

：

大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室

【出处】

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电化学

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

：

电沉积光刻结合力 Electrodeposit Photolithograph Binding force

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利用电沉积技术制作微流控芯片金属模具,方法是:使用新型超厚光刻胶SU-8胶作近紫外光刻,并在光刻后的图案上电沉积金属Ni,之后去胶,最终获得金属模具.该法减小了电沉积工作量.采用反向电流预处理基底、并适当增加电铸液的添加剂以及脱模后真空退火,即可明显提高电沉积微结构与基底的结合力.用此金属模具成功热压了PMMA,制成了微流控芯片.

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