【摘 要】
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热喷涂技术是表面工程领域一项重要的分支,在高性能涂层制备中已经得到越来越广泛的应用,特别在制备具有优良特性的热障涂层(Thermal Barrier Coatings,TBCs)中发挥重要作用
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热喷涂技术是表面工程领域一项重要的分支,在高性能涂层制备中已经得到越来越广泛的应用,特别在制备具有优良特性的热障涂层(Thermal Barrier Coatings,TBCs)中发挥重要作用。等离子物理气相沉积(Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)是基于低压等离子喷涂发展的一种快速多相调控涂层制备技术,可获得薄膜、致密涂层、柱状晶结构涂层。PS-PVD的工艺设备制造是一大难题,国外发展尚不足十年,我国的PS-PVD设备都来自进口,国内开展了相关设备的探索工作。本文从PS-PVD工艺的发展历程入手,重点阐述PS-PVD设备的基本构造及关键技术。最后,对其发展和应用前景进行展望。
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