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优化设计了365nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布,实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验,所得刻写图形与掩模板图形一致。提出的基于365nm紫外LED阵列均匀辐照面光源的光刻方法具有结构简单、节能、环保等优势。
均匀辐照365nm LED光源设计及其在光刻中的应用
【摘 要】
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优化设计了365nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布,实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验,所得刻写图形与掩模板图形
【机 构】
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中国科学技术大学光学与光学工程系,巢湖学院物理与电子科学系,
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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2012年04期
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