OLEDs中CuPc缓冲层作用的AFM与XPS研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cz1502008
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利用AFM对CuPc/ITO样品表面进行扫描,发现其生长较均匀,基本上覆盖了ITO表面的缺陷,且针孔较少。通过样品表面和界面的XPS谱图分析,进一步证实了这一结果,同时发现,CuPc可以抑制ITO中的化学组分向空穴传输层的扩散。有利于器件的性能的改善和寿命的提高。
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