基于多层膜偏振元件的软X射线磁光Faraday偏转测量

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在北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线上利用自行研制的同步辐射软X射线综合偏振测量装置对Ni的M2,3边附近(60-70ev)进行了软X射线磁光(magneto-optical)法拉第效应(Faraday effect)的偏转测量,实验装置主要由起偏器,检偏器,样品架,圆形钕铁硼永磁铁和MCP探测器组成,偏振元件(起偏元件和检偏元件)均采用反射式非周期性Mo/Si宽带多层膜.实验采用反射起偏和反射检偏的模式,得到一系列能量范围在60-70eV间的法拉第偏转角结果,结果表明在Ni的M2,3边附近法拉第效应最为明显,当能量为65.5eV和68eV时,Faraday偏转角分别为1.79°±0.19°(1.79°为正反向磁场偏转角大小的平均值)和-0.76°±0.09°(0.76°为正反向磁场偏转角大小的平均值).
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