NbN沉积膜的抗腐蚀特性研究

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenzhong1983

【摘要】

：

利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜,用XPS,XRD和SEM对膜层进行测量和分析,结果表明,沉积膜为δ-NbN,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关,衬底

【作者】

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李永良宋教花张涛

【机构】

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北京师范大学分析测试中心,北京师范大学低能核物理研究所

【出处】

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真空科学与技术

【发表日期】

：

2002年5期

【关键词】

：

VAPD NBN 沉积膜抗腐蚀性等离子体沉积氮化铌 VAPD NbN Deposited film Corrosion resistance

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利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜,用XPS,XRD和SEM对膜层进行测量和分析,结果表明,沉积膜为δ-NbN,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关,衬底温度越高,生成的膜越致密,膜的表面越平整光滑.多次循环阳极极化扫描曲线测量表明,沉积膜样品的致钝电流密度(Ip)较碳钢降低(1～2)个数量级,抗腐蚀性能大幅度提高.

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