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在室温下以C4F8和CH4为前驱气体,用电子回旋共振化学气相沉积(ECR-CVD)的方法生长了氟化非晶碳(α-C:F)薄膜。通过傅立叶变化红外光谱分析(FTIR)和X射线光电子能谱分析(XPS)对薄膜的化学结构和成键情况进行了研究。CFx(x=2~3)以及位于DC交联结构末端用于构成CxFy大分子结构的C-C键的热稳定性较差,在N2气氛下退火后,会以气态形式进行分解,导致α-C:F薄膜膜厚的减小。随着源气体流量比R=[C4F8]/([C4F8]+[CH4])的减小.α-C:F薄膜中C-CFx交联结构逐渐增