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水浴条件下YAG倍频、三倍频激光切割Si片比较
水浴条件下YAG倍频、三倍频激光切割Si片比较
来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jjass
【摘 要】
:
对Nd: YAG固体激光器倍频、三倍频激光输出在空气和水浴环境下刻蚀Si片进行了研究,分析了刻蚀速率和样品表面形貌,得出了在355 nm刻蚀波长下,水浴环境中,刻蚀速率最快,刻槽宽
【作 者】
:
凌磊
楼祺洪
李抒智
叶震寰
马海霞
董景星
【机 构】
:
中国科学院上海光学与精密机械研究所
【出 处】
:
光子学报
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
YAG固体倍频激光
切割
Si片
水浴
Harmonic output of YAG laser
microcutting
Si wafer
Water
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对Nd: YAG固体激光器倍频、三倍频激光输出在空气和水浴环境下刻蚀Si片进行了研究,分析了刻蚀速率和样品表面形貌,得出了在355 nm刻蚀波长下,水浴环境中,刻蚀速率最快,刻槽宽度最小,小于10 μm的实验结论,为工业应用提供参考.
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