用于离子注入机的两种强流离子源

来源 :中国原子能科学研究院年报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aulxbdmmydb
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为适应强流离子注入机的发展需要,对弗瑞曼型和贝尔纳斯型离子源进行了研究改进,使两种源在主要性能上均得到很大提高。①提高了电离效率。在同样的气耗与功耗下,引出离子流成倍增加,引出的~(40)Ar~+束流可达32mA,经磁分析后的~(11)B~+达5mA, In order to meet the needs of the development of strong ion implanters, the research on the Freerman and Bernard ion sources has been improved so that the two sources are greatly improved in their main properties. ① improve the ionization efficiency. Under the same gas consumption and power consumption, the ion current exponentially increases and the ~ (40) Ar ~ + current reaches 32mA. After the magnetic analysis, ~ (11) B ~ + reaches 5mA,
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