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采用磁控溅射方法在硅和石英衬底上制备了纯ZnO和Mg0.04Zn0.96O薄膜．用XPd）和AFM表征薄膜的晶化行为和显微结构，用透射谱和光致发光谱分析薄膜的光学性质．分析结果昆示：两种薄膜均为六角纤锌矿结构，且沿c轴取向，薄膜表面光滑致密，晶粒分布均匀；薄膜在可见光范围内具有较高的透过率，№掺杂后透射谱吸收边向高能侧移动，相应的薄膜的带隙宽度从3．28eV升至3．36eV；用包络法计算出薄膜的光学常数表明，Mg掺杂没有明显改变薄膜的折射率，但使消光系数明显增大；薄膜的光致发光谱分析也发现，掺入Mg使带边