【摘 要】
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利用直流磁控溅射装置淀积ｎｃ－ＺｎＯ薄膜，而以ＳｉＯ２／Ｓｉ，Ａｎ／ＳｉＯ２／Ｓｉ和玻璃为基片．应用磁控溅射技术淀积压电ｎｃ－ＺｎＯ薄膜可以减小电子对ｎｃ－ＺｎＯ薄膜表面的轰击损伤，增加电子与反应粒子的碰撞几率，同时又减小界面应力．实验获得ｎｃ－ＺｎＯ薄
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利用直流磁控溅射装置淀积ｎｃ－ＺｎＯ薄膜，而以ＳｉＯ２／Ｓｉ，Ａｎ／ＳｉＯ２／Ｓｉ和玻璃为基片．应用磁控溅射技术淀积压电ｎｃ－ＺｎＯ薄膜可以减小电子对ｎｃ－ＺｎＯ薄膜表面的轰击损伤，增加电子与反应粒子的碰撞几率，同时又减小界面应力．实验获得ｎｃ－ＺｎＯ薄膜的晶粒尺寸约为２５ｎｍ．电阻率ρ＞１０９Ω．ｃｍ．晶面族（００２）Ｘ射线衍射峰位置２θ＝３４．４４°，有很好的晶态Ｃ轴取向．
The nc-ZnO thin film was deposited by DC magnetron sputtering and the substrate was SiO2 / Si, An / SiO2 / Si and glass. The deposition of piezoelectric nc-ZnO thin film by magnetron sputtering can reduce the electron bombardment damage on the surface of nc-ZnO thin film, increase the collision probability between electrons and reactive particles, and reduce the interfacial stress. The nc-ZnO thin film obtained by experiment has a grain size of about 25nm. Resistivity ρ> 109Ω. cm. Crystal family (002) X-ray diffraction peak 2θ = 34.44 °, has a good crystalline C-axis orientation.
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