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利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积了TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析.结果表明:所镀薄膜厚度可超3 μm,薄膜生长较好,形成了细化的柱状晶粒.断口扫描结果表明:薄膜与基体的结合比较牢固,结合力可达41N.
非平衡磁控溅射TiAlN薄膜及性能分析
【摘 要】
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利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积了TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析.结果表明:所镀薄膜厚度可超3 μm,薄膜生长较好,形成了细化的柱状
【机 构】
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郑州职业技术学院电气电子工程系,河南郑州,450121郑州广播电视大学,河南郑州,450121;
【出 处】
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热加工工艺
【发表日期】
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2013年20期
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