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利用无规分形对钽电容中ＭｎＯ２／Ｔ２２Ｏ５和Ｔａ／Ｔａ２Ｏ５界面的ＩＳＥＭ形貌进行了图像处理。根据提出的分形维数值，验证了被膜过程为化学反应控速，阳极氧化击穿过程为扩散控速。
分形几何学在钽电容界面形貌图像处理中的应用
【摘 要】
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利用无规分形对钽电容中ＭｎＯ２／Ｔ２２Ｏ５和Ｔａ／Ｔａ２Ｏ５界面的ＩＳＥＭ形貌进行了图像处理。根据提出的分形维数值，验证了被膜过程为化学反应控速，阳极氧化击穿过程为扩散控速。
【机 构】
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中国科学院化工冶金研究所,北京科技大学理化系
【出 处】
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化工冶金
【发表日期】
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1998年2期
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