基于二氧化硅的微米级线距样片制备

来源 :宇航计测技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:FlamesTsui
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设计了微米级线距样片的图形结构和制作工艺流程,制作了周期尺寸为(1~10)μm的线距样片。以周期尺寸为1μm和10μm的样片为例对样片的直线度、均匀性和稳定性等质量参数进行了考核。结果表明,研制的线距样片尺寸与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的标准样片进行了结果对比,本文研制的线距样片与VLSI的标准样片质量相当。
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