Rapidly Synthesis of Nanocrystalline Diamond Films by Helicon Wave Plasma

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A new technique of the synthesis of Nanocrystalline Diamond(NCD)Films by helicon wave plasma(HWP)chemical vapor deposition at room temperature was reported.The growth morphology and the roughness of NCD samples was characterized using filed emission scanning electron microscopy(SEM-SU8010)and atom force microscopy(AFM),respectively.The results show the growth rate of the film was very fast,about 833nm/min.Typical G,D bands A new technique of the synthesis of Nanocrystalline Diamond (NCD) Films by helicon wave plasma (HWP) chemical vapor deposition at room temperature was reported. The growth morphology and the roughness of NCD samples was characterized by filed emission scanning electron microscopy (SEM-SU 8010 ) and atom force microscopy (AFM), respectively. The results show the growth rate of the film was very fast, about 833 nm / min. Typical G, D bands
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