微颗粒表面磁控溅射镀金属膜

来源 :过程工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yufengdetianxia

【摘要】

：

采用磁控溅射方法,开展了在微颗粒表面镀金属膜的实验研究.研究开发了一种在微颗粒表面真空镀金属膜的方法及设备,微颗粒包括空心微珠、不同粒度的碳化硅微粉等,所镀的金属包

【作者】

：

俞晓正徐政沈志刚

【机构】

：

北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室,国家纳米技术产业化基地,北京有色金属研究总院

【出处】

：

过程工程学报

【发表日期】

：

2006年S2期

【关键词】

：

微颗粒磁控溅射金属膜表面形貌

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采用磁控溅射方法,开展了在微颗粒表面镀金属膜的实验研究.研究开发了一种在微颗粒表面真空镀金属膜的方法及设备,微颗粒包括空心微珠、不同粒度的碳化硅微粉等,所镀的金属包括铝、银、铜、钴、镍等.实验与分析结果表明,通过控制微颗粒的运动方式,采用磁控溅射镀金属膜,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.

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