硅烷及其杂质的气相色谱分析

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制备多晶硅时,用液氨法在低温下产生的硅烷,除主成份SiH4外,尚含H2、微量NH3、Si2H6、CH4、H2O、O2、N2、PH3,以及痕量的B2H8和AsH3等杂质,而其中有些杂质,如CH4、H2O、N2等,主要由液氨带入。因此,要加强原材料的分析,严格监控工艺过程中硅烷气内的有害杂质,采取必要的纯化措施。这样,将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。
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