【摘 要】
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前言在1981年第三届离子与等离子体相关技术的国际会议上,报导了可在400℃沉积TiN,在500℃沉积TiC超硬膜的PECVD技术。近几年来PECVD技术已可用来沉积TiN、TiC、SiN、SiC等
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前言在1981年第三届离子与等离子体相关技术的国际会议上,报导了可在400℃沉积TiN,在500℃沉积TiC超硬膜的PECVD技术。近几年来PECVD技术已可用来沉积TiN、TiC、SiN、SiC等涂层。国内有的单位也已取得了成果,在集成电路中已得到了应用,但在机器零件或工模
INTRODUCTION At the Third International Conference on Plasma and Plasma Related Technology, 1981, PECVD technology was reported for the deposition of TiN at 400 ° C and the deposition of TiC superhard films at 500 ° C. In recent years, PECVD technology has been used to deposit TiN, TiC, SiN, SiC and other coatings. Some domestic units have also made achievements in the integrated circuit has been applied, but in the machine parts or mold
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