【摘 要】
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利用电子极化的劳伦茨-劳伦兹关系研究了PECVD氮化硅膜的组分(Si/N).生长条件的变化导致薄膜的Si/N比率千差万别.采取C-V测试和高温准静态离子电流测试对不同Si/N比率的氮化
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利用电子极化的劳伦茨-劳伦兹关系研究了PECVD氮化硅膜的组分(Si/N).生长条件的变化导致薄膜的Si/N比率千差万别.采取C-V测试和高温准静态离子电流测试对不同Si/N比率的氮化硅膜的微电子学特性进行了探讨.
The composition of the PECVD silicon nitride film (Si / N) was investigated by using the Lorentz-Lorentz relationship of electron polarization.The variation of the growth conditions resulted in the different Si / N ratio of the film.With the CV test and high quasi-static ion The current tests discussed the microelectronic properties of silicon nitride films with different Si / N ratios.
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