靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

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采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究。结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平。这种氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4个组分构成,靶基距从30mm增加到80mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势。随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75&#
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