自富Te溶液液相生长Hg Cd Te的Hg抑制

来源 :红外与激光技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:amwygah021121
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Hg_(1-x)Cd_xTe是光伏和光导红外光子探测器用的重要半导体材料。Hg_(1-x)Cd_xTe可在大气压下,由500℃、汞蒸汽压低于0.1大气压的富Te溶液液相外延生长得到。这样低的汞蒸汽压使有可能采用开管、滑块生长工艺。本专利提出一加盖的石墨滑移系统,其中有一附加汞源,用来减少源片的汞损失,并有效地防止了(Hg_(1-x)Cd_x)_(1-y)Te_y生长液的汞损失。 Hg_ (1-x) Cd_xTe is an important semiconductor material for photovoltaic and photoconductive infrared photon detectors. Hg_ (1-x) Cd_xTe can be epitaxially grown at atmospheric pressure from the liquid phase of a Te-rich solution having a mercury vapor pressure of less than 0.1 at 500 ° C. This low mercury vapor pressure makes it possible to use open tube, slider growth process. This patent proposes a capped graphite slip system in which an additional source of mercury is used to reduce the mercury loss in the source sheet and to effectively prevent the growth of (Hg_ (1-x) Cd_x) _ (1-y) Te_y Mercury loss.
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