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14 nm工艺光刻对准之异常问题与对策分析
14 nm工艺光刻对准之异常问题与对策分析
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:seed_sg
【摘 要】
:
探讨14 nm工艺生产过程中,在光刻晶圆对准时遇到的异常问题及其解决方案。通过预对准温控单元TSU与14 nm产品晶圆高度的有效控制,可有效改善对准异常问题且套刻精度OVL状况保
【作 者】
:
郑华明
徐晓敏
黄俊
【机 构】
:
上海华力集成电路制造有限公司
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2019年10期
【关键词】
:
集成电路制造
光刻
预对准
晶圆对准
套刻误差
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探讨14 nm工艺生产过程中,在光刻晶圆对准时遇到的异常问题及其解决方案。通过预对准温控单元TSU与14 nm产品晶圆高度的有效控制,可有效改善对准异常问题且套刻精度OVL状况保持不变。
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