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制绒工艺是晶硅太阳能电池产业化研究的重要方向之一。本文对德国Rena公司的湿法腐蚀制绒设备进行了工艺流程的简要概括，在产业化环境中对硅片表面的化学处理工艺进行了研究。通过研究分析，自制的GP溶液能有效的降低溶液表面张力并改善单晶硅片表面的浸润效果；湿法腐蚀后，硅片表面绒面结构清晰，金字塔形状均匀，底座大小在2～3μm左右；由腐蚀深度变化曲线分析可知，各腐蚀槽腐蚀深度值92％都集中在7．5～8．5之间，接近最优化腐蚀深度，碎片率低于5‰。