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气相沉积法原是一种金属表面处理技术,后来应用于电子工业制造半导体元件。近年来化学工作者把它引入到催化剂制备工艺过程。利用气相沉积法不仅可均匀地在载体表面负载活性组分,还可有效地改变催化剂表面的性质,改善催化剂的性能。
气相沉积法制备负载催化剂
【摘 要】
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气相沉积法原是一种金属表面处理技术,后来应用于电子工业制造半导体元件。近年来化学工作者把它引入到催化剂制备工艺过程。利用气相沉积法不仅可均匀地在载体表面负载活性
【机 构】
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北京化工研究院
【出 处】
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现代化工
【发表日期】
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1989年4期
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